"Intel расширяет свою дорожную карту: переход на 1-нанометровый процесс и создание полностью автономной фабрики"

Литейное производство Intel недавно расширило свою общедоступную дорожную карту, включив в нее процесс Intel 14A и добавив определенные узлы. Однако недавние изменения в дорожной карте перенесли Intel 14A на 2026 год, а в 2027 году был представлен новый процесс, а именно 1 нанометр (Intel 10A). Это первое объявление Intel о начале 1-нанометрового процесса.

Intel 10A планируется ввести в фазу производства/разработки (немассовое производство) в 2027 году, а Intel 14A (1,4 нанометра) - в 2026 году. Кроме того, Intel планирует создать полностью автономную фабрику, управляемую искусственным интеллектом.

Если предположить, что Intel успешно запустит свой 1,8-нм техпроцесс в следующем году, последует 1,4-нм техпроцесс в 2026 году, а затем перейдет на 1-нм техпроцесс в 2026 году. В отчете Extremetech за 2027 год утверждается, что Intel, скорее всего, опередит своего конкурента TSMC.

Intel не раскрыла никаких подробностей относительно узла 10А, но обещает как минимум двузначное улучшение энергопотребления и производительности. Генеральный директор Intel Пэт Гелсингер ранее заявлял, что новые процессы обычно улучшают критические параметры примерно на 14–15%.

Текущие технологические разработки в Intel включают Intel 20A, который объединяет две новые технологии: backside power (PowerVIA) и транзисторы GAA (RibbonFET). Кроме того, предпринимаются активные усилия по увеличению производственных мощностей для передовых упаковочных технологий, таких как Foveros, EMIB, SiP (Silicon Photonics) и HBI (Hybrid Bond Interconnect).

Место производства узла 10A не разглашается.